发表时间:2014-10-17 阅读次数:5850次

编号

名称

型号

规格

生产厂家

国别

Z1400532

热阻蒸发镀膜设备

Nano36

3个热阻蒸发源

美国科特莱思科公司

美国

H1305662

化学气相沉积系统

SC-300

12英寸

沈阳拓荆科技有限公司

中国

Z1201288

全自动探针台

UF3000EX-e型

AC200V,50/60Hz,3kVA

日本Tokyo公司

日本

Z1200604

存储器参数测试系统

RIFLE-SE

3nA/1.2-4V

意大利Nplust公司

意大利

Z0901036

半导体存储器参数测试仪

4200-SCS/F

100-240V,1KVA

美国Keithley公司

美国

Z0892321

扫描探针显微镜

Nanoscope

*

美国Veeco Instruments 公司

美国

Z0700581

手动探针台

Cascade R4800

手动

美国CASCADE

美国

Z0627210

电学测试系统

高精度IV/CV等

*

美国AGILENT公司

美国

20062145

台阶分析仪

XP-2

*

美国

美国

20036588

芯片测试系统

93000

*

美国AGILENT公司

美国

Z1400568

柔性四件组装加工手套箱

spectors 150型

4m*1m*1.2m

Kurt J.Lesker 公司

英国

Z1400567

大面积柔性三维光刻

Nano Photonic Pro 型

分辨率:150nm

Nano Precision

德国

Z1400566

柔性电子制造设备

Aerosol Jet Pro 300型

精度:30微米 温度:小于200摄氏度

Optomec公司

美国

Z1400084

亚微米级贴片设备

Fineplacer Lambda 型

可处理最小 5 µm 的芯片,支持最大晶圆尺寸: 6"

Finetech

德国

Z1400083

无线和微波频段测试系统

DSAX96204Q型

63 GHz 带宽,160 GSa-s 采样率,存储容量高达 2 Gpts

Agilent technologies

新加坡

Z1400082

激光键合设备

Unix-413L Ⅲ型

最大激光功率:30瓦 最大平均功率:10瓦

Japan Unix

日本

Z1400081

台式扫描式电子显微镜

Phenom proX 型

放大倍数:20×-100,000×;分辨率:优于17nm

Phenom-World BV 公司

荷兰

Z1400080

柔性四件电化学加工测试平台

CIMPS 型

P210,XPOT 作为光源电源

Zahner 公司

法国

Z1400059

高性能频谱分析仪

N5225A型

PNA系列

Agilent technologies

新加坡

Z1400058

高性能频谱分析仪

N9030A型

PXA系列

Agilent technologies

新加坡

H1206362

等离子刻蚀系统

SPTS LPX ICP

适用范围:4寸片

英国SPTS公司

英国

Z1200521

实验室电路板快速系统(激光机)

ProtoLaser S

线宽线距:0.2mm

乐普科公司

德国

Z0900910

射频探针台

SUMMIT 12000B-M

*

美国Cascade公司

美国

Z0900653

原位纳米力学测试系统

TI-700 Ubi

纵向载荷力分辨率达3nm

美国Hysitron公司

美国

H0901754

超低温手动探针台

TTP4

手动/温度可调(4.2-475K)

美国LakeShore有限公司

美国

Z0892808

智能型傅立叶红外光谱分析仪

Nicolet 6700

光谱分辩率:优于0.09cm-1/光谱范围:7800-350cm-1

美国Thermofisher公司

美国

Z0892807

显微喇曼/荧光光谱仪

inVia型

*

英国Renishaw公司

英国

Z0892377

数字电视芯片测试系统

R&S SFU型

输出频率:100kHz-3GHz,I/Q调制器射频带宽:180MHz;极低的SSB相位噪声,1GHz时典型值为-135dBc;可调的高功率输出,最高可达+19dBm(PEP),超出量程可达+26dBm。

德国Rohde-Schwarz公司

德国

H1405967

气相沉积系统

R-200 Advanced

12源系统 最大放置8英寸基片

芬兰Picosun OY公司

芬兰

H1306316

薄膜沉积系统

PVD75

2个直流靶枪/1个射频 4”承片台

Kurt J Lesker公司

美国

H1301553

化学气相沉积系统

Firstnano Easytube 3000

4英寸

CVD公司

美国

H1212833

超高真空激光分子束系统

PLD-1

1E-8Torr真空/800度加热

台湾铠柏科技有限公司

中国台湾

H1212767

原子层淀积系统

TFS200

8寸

芬兰BENEQ公司

芬兰

H1206166

矢量网络分析仪

N5224A

10M-43G Hz/2 端单源

Agilent公司

美国

H1203458

微波退火设备

AXOM200

2-8寸/600度

DSGI Technologies Inc.

美国

H1203226

准分子气体激光器

compex*pro201

248nm

Coherent公司

德国

H1108351

高精密电学测试探针台

summit-1

11000B-m

美国Cascade公司

美国

H1108135

纳米热分析系统

Multimode 8型

分辨率10X10纳米

Bruker公司

美国

Z1100835

信号源分析仪

E5052B

7G频率

Agilent公司

美国

Z1100163

频谱分析仪

E4440A

*

美国/Agilent

美国

Z0901047

X射线衍射仪

D8型

最大输出功率:3kW /测量范围2keV ~ 30keV;能量分辨率: E ≥279 eV

德国Bruker-AXS公司

德国

Z0900907

矢量网络分析仪

E8363C

10MHz to 40Gz

美国Agilent公司

美国

Z0900906

矢量信号源

E8267D

44GHZ

美国Agilent公司

美国

H0905603

实时示波器

DS091204A

40GSa/s采样率

Agilent

美国

H0903657

椭圆偏振光谱仪

GES5E

聚焦长度750nm

法国SOPRA公司

法国

Z0900273

硬件加速仿真验证仪

Veloce

支持1千6百万门ASIC有效门的设计容量

美国Mentor有限公司

美国

Z0892416

频谱分析仪

Agilent E4440A

频率范围:3Hz-26.5GHz

美国Agilent公司

美国

20062206

矢量信号发生器

E4438C

*

安捷伦公司

美国

20062204

矢量信号分析仪

89641A

*

安捷伦公司

美国

H1306680

铜互连超薄籽晶层集成溅射和测试系统

Aarhus 150-MBE-BO-III-V-4Z/Multiprobe 2/2 HRSEM

真空度10¯9Torr

德国Specs公司

德国

H1305852

半导体晶片探针台

T200M-STA-M型

50FA

美国Cascade公司

美国

H1305745

互连铜导线成分分析仪

GD-Profiler 2型

光谱范围110-620nm

法国Horiba JobinYvon公司

法国

H1305617

化学气相沉积系统

SC-300

380V交流电-三相5线/50HZ/25KVA

沈阳拓荆科技有限公司

中国

H1304663

低介电常数介质电容(K值)测试设备

B1505A

500W

Agilent公司

美国

H1304163

微细加工ICP刻蚀机

GSE 200PLUS

Si基片-采用Oxide掩膜/Open area=0.5%-20%/刻蚀深度30um

北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司

中国

H1303978

快速热退火系统

ASONE 100

室温 ~ 1300 ℃ / 最高昇温速度 :50 ℃ / sec以上

法国ANNEALSYS公司

法国

H1212683

探针测试台

SH-8

8英寸

森美协尔国际有限公司

中国香港

H1109087

半导体参数分析仪

B2500A

220V/50HZ

Agilent公司

美国

H1104861

白光干涉仪

NanoMap-WLI

150mm

美国AEP Technology公司

美国

H1102211

桌上型化学机械抛光设备

CETR-CP4

4英寸

美国CETR公司

美国

H1102096

纳米压印设备

Eitre 6

6英寸

瑞典Obduct公司

瑞典

H1009055

原子层淀积系统

TFS-200

8英寸

芬兰BENEQ公司

芬兰

H1004092

高精度探针台

MM8060

6寸

micromanupulator

美国

Z0901041

探针测试台

SUMMIT 11000B-M型

230V/3A

美国Cascade公司

美国

H0899981

纳米器件溅射仪

ASC-4000-C4 Type L型

*

日本ULVAC

日本

H0899980

存储薄膜溅射仪

ACS-4000-C4 Type S型

*

日本ULVAC公司

日本

20046740

原子层化学气相沉淀系

F-120/4寸硅片

单片腔体系统

AMS公司

芬兰

20046662

等离子反应离子刻蚀机

RIE-10NR

*

SAMCO公司

日本

20043432

物理气相淀积系统

INOVA

8寸硅片4个腔

诺发公司

美国

20043431

等离子体增强介质薄膜

淀积系统

8寸硅片

诺发公司

美国

20043430

化学机械抛光系统

8寸硅片

*

诺发公司

美国

20043429

铜电镀系统

SABRECLASSIC200

8寸硅片3个电镀槽

诺发公司

美国

Copyright © 2014 上海市浦东新区张衡路825号微电子楼  邮编:201203

电话:021-51355200  E-mail:asic@fudan.edu.cn